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真空蒸发镀膜法生产太阳膜过程  

2008-06-02 15:21:27|  分类: 镀膜技术 |  标签: |举报 |字号 订阅

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现在市面上好的太阳膜其制作方法多半为以下两种:一种是真空蒸发镀膜法。一种是磁控溅射法。

  1.真空蒸发镀膜法就是在1.3×10-2~1.3×10-3Pa(10-4~10- 5Torr)的真空中以电阻加热镀膜材料,使它在极短的时间内蒸发,蒸发了的镀膜材料分子沉积在基材表冇上形成镀膜层。真空镀膜室是使镀膜材料蒸发的蒸发 源,还有支承基材的工作架或卷绕装置都是真空蒸发镀膜设备的主要部分。镀膜室的真空度,镀膜材料的蒸发熟练地,蒸发距离和蒸发源的间距,以及基材表面状态 和温度都是影响镀膜质量的因素。

  2. 磁控溅射法是指电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩 离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基 片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的 运动路径很长,在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,最终沉 积在基片上。

  磁控溅射法与蒸发法相比,具有镀膜层与基材层的结合力强,镀膜层致密,均匀等优点。真空蒸发镀膜 法需要使金属或金属化合物蒸发气化,而加热温度又不能太高,否则气相蒸镀金属会烧坏被塑料基材,因此,真空蒸镀法一般仅适用于铝等熔点较低的金属源,是目 前应用较为广泛的真空镀膜工艺。相反,喷溅镀膜法利用高压电场激发产生等离子体镀膜物质,适用于几乎所有高熔点金属,合金、非金属及金属化合物镀膜源物 质,如铬,钼,钨,钛,银,金等。而且它是一种强制性的沉积过程,采用该法获得的镀膜层与基材附着力远高于真空蒸发镀法,镀膜层具有致密,均匀等优点,加 工成本也相对较高。

  目前拥有磁控溅射技术的太阳膜生产厂家有:美国韶华科技公司(Southwall)、美国贝卡尔 特公司(Bekaert)、美国CPFilms公司。利用磁控溅射技术所生产的太阳膜具有膜层致密、均匀,有良好的透光性和优良的光谱选择性能,使其能够 为车主带来舒适、安全的行车环境。

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<#--最新日志,群博日志--> <#--推荐日志--> <#--引用记录--> <#--博主推荐--> <#--随机阅读--> <#--首页推荐--> <#--历史上的今天--> <#--被推荐日志--> <#--上一篇,下一篇--> <#-- 热度 --> <#-- 网易新闻广告 --> <#--右边模块结构--> <#--评论模块结构--> <#--引用模块结构--> <#--博主发起的投票-->
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

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